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Mur uniforme de réservoir de Quartz de silice fondue de haute pureté résistant à HF pour le réacteur de laboratoire de Digestion chimique de décapage de gaufrette
| Matériel | Silice fondue de haute pureté | Construction | Intégralement fusionné ou collé |
|---|---|---|---|
| Surface | Meulage fin double face, paroi intérieure lisse | Résistance à la température | ≤1100°C Travail continu |
| Résistance chimique | Résistant aux acides/alcalis forts concentrés et HF | ||
| Mettre en évidence | Un réservoir de quartz de haute pureté,un réservoir de quartz de silice fusionné,un réservoir de quartz de décapage de gaufres |
||
réservoir de quartz de silice fondu de haute pureté
Ce réservoir de quartz de silice fondu de haute pureté présente une épaisseur de paroi uniforme, des surfaces de sol fines à double face et une construction intégralement fondue ou collée.Avec une température de travail continue ≤ 1100°C et une durabilité chimique supérieure à HF/acide fort, il offre des performances fiables pour le décapage des plaquettes à semi-conducteurs, la digestion des échantillons à haute température,réactions chimiques par réactif et calcination à ciel ouvert en laboratoire.
Paramètres du produit
| Paramètre | Spécification |
|---|---|
| Matériel | Silice fondue de haute pureté |
| Construction | D'une épaisseur de 50 mm ou plus |
| Épaisseur de paroi | Uniforme |
| Finition de surface | Le sol est fin, la paroi interne lisse |
| Température de fonctionnement | ≤ 1100°C en continu |
| Résistance chimique | Résistant aux HF et aux acides/alcalins forts concentrés |
| Expansion thermique | Faible résistance au chauffage et au refroidissement rapides |
| La pureté | Haute pureté, aucune précipitation de métaux lourds |
Principales caractéristiques
- Résistance aux HF et aux produits chimiques¢ Entièrement résistant à l'acide fluorhydrique et aux acides/alcalins forts concentrés, adapté à l'immersion prolongée de réactifs corrosifs qui détruiraient les réservoirs de verre borosilicate.
- ≤ 1100°C Fonctionnement continu- Maintient l'intégrité structurelle à des températures élevées soutenues pour la digestion, la calcination et les procédés chimiques à haute température sans ramollir ni se déformer.
- Haute pureté, aucune contamination- 99,99% de silice fusionnée pure avec zéro précipitation de métaux lourds, assurant l'absence de contamination croisée lors du traitement des plaquettes à semi-conducteurs et des applications chimiques de haute pureté.
- Faible expansion thermique- Une excellente résistance aux chocs thermiques résiste à des cycles rapides de chauffage et de refroidissement sans fissuration, ce qui permet une utilisation cyclique répétée dans des environnements de laboratoire et industriels exigeants.
- Parée intérieure lisseLa surface intérieure est polie avec précision pour un nettoyage facile et une adhérence minimale des résidus, ce qui réduit le risque de contamination croisée entre les lots.
Applications
1. Le décapage à l' acide humide
Réservoir d'immersion acide pour les procédés de décapage et de nettoyage des plaquettes photovoltaïques, du verre optique et des semi-conducteurs, avec une résistance totale aux HF et aux acides garantissant un fonctionnement fiable à long terme.
2. Digestion à haute température
Récipient pour la digestion et l'évaporation d'échantillons destiné à l'analyse chimique, aux essais environnementaux et aux analyses en laboratoire, résistant au chauffage prolongé et aux réactifs de digestion corrosifs.
3Production chimique à petite échelle
Réaction de réactif corrosif, purification et réservoir de stockage temporaire pour les essais chimiques à l'échelle pilote, avec une construction en quartz inerte empêchant les réactions secondaires indésirables.
4. Sintration en laboratoire
Récipient de calcination ouvert pour les matières premières en poudre dans les fours électriques de laboratoire, avec stabilité à haute température et construction non contaminante pour des résultats expérimentaux répétables.
Avantages par rapport au verre borosilicate
Contrairement aux réservoirs de verre borosilicate attaqués par HF et ramollis à haute température, ce réservoir de quartz de silice fondu offre une résistance complète à HF, un fonctionnement soutenu à 1100 °C,excellente résistance aux chocs thermiques pour une utilisation cyclique, et une pureté élevée sans précipitation de métaux lourds, ce qui en fait le choix définitif pour le traitement des plaquettes semi-conducteurs, la digestion à haute température et les applications chimiques corrosives.

