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36x32x580mm Quartz à haute pureté Instrument résistance à la chaleur Acide à l'alcalinité Pour la purification de distillation en laboratoire
| Matériel | Silice fondue de haute pureté (SiO2 > 99,99 %) | Dimensions | 36 mm x 32 mm x 580 mm |
|---|---|---|---|
| Température de fonctionnement maximale | 1100°C | Résistance chimique | HF, acides forts et alcalis, solvants organiques |
| Résistance aux chocs thermiques | Excellent, faible CTE 5,5 x 10^-7 /°C | Transmission | Gamme UV-Visible |
| Pureté | Aucune précipitation d'ions métalliques | Application | Distillation en laboratoire, purification chimique fine, prétraitement des semi-conducteurs, digesti |
| Mettre en évidence | Instrument de quartz de 36x32x580 mm,instrument de quartz de haute pureté,instrument de quartz de purification chimique |
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Présentation du produit
LeInstrument à quartz de haute pureté(36 mm x 32 mm x 580 mm) est un récipient en verre de quartz polyvalent conçu pour les applications exigeantes en matière de produits chimiques, de semi-conducteurs et environnementales. Fabriqué à partir de silice fondue de qualité supérieure (SiO2 > 99,99 %), il offre une stabilité thermique exceptionnelle jusqu'à 1 100 °C, une inertie chimique exceptionnelle contre l'HF et les milieux fortement corrosifs, ainsi qu'une précipitation d'ions métalliques nulle, ce qui en fait le choix préféré pour les traitements chimiques et les flux de travail analytiques de haute pureté.
Principales fonctionnalités
- Résistance aux températures élevées de 1 100 °C :Convient pour une flamme directe et un chauffage électrique ; maintient l'intégrité structurelle dans des conditions thermiques extrêmes sans déformation
- Forte résistance aux acides et aux alcalis :Durabilité chimique exceptionnelle contre l’acide fluorhydrique, les acides concentrés, les alcalis forts et les solvants organiques
- Haute pureté sans précipitation de métal :SiO2 > 99,99 % sans lixiviation ionique, empêchant la contamination des échantillons dans les processus d'analyse et de purification sensibles
- Excellente résistance aux chocs thermiques :Le faible coefficient de dilatation thermique empêche les fissures lors des cycles de chauffage-refroidissement rapides, bien supérieur au verre borosilicaté
- Transmission élevée :Excellente clarté optique sur toute la plage UV-visible pour la surveillance visuelle des réactions et des processus
Applications
| Industrie | Application |
|---|---|
| Chimie de laboratoire | Récipient de distillation et de réaction de reflux à haute température pour HF et réactifs acides/alcalis concentrés sous flamme directe ou chauffage électrique ; utilisé pour la purification des matériaux et l'analyse physico-chimique |
| Chimie Fine & Nouveaux Matériaux | Récipient de purification par synthèse humide et décapage acide pour matières premières de haute pureté ; empêche le dopage des impuretés métalliques pour garantir la pureté du produit final |
| Industrie des semi-conducteurs | Récipient de distillation de réactifs de qualité électronique et de prétraitement des matières premières précurseurs ; répond aux exigences de fabrication ultra-propre des matériaux électroniques |
| Tests environnementaux | Cellule de digestion à haute température pour le prétraitement des gaz résiduaires et des échantillons liquides ; résistant à la corrosion contre les réactifs de digestion agressifs |
Avantages compétitifs
par rapport à l'instrument en verre borosilicaté :Résiste à l'acide fluorhydrique et au fonctionnement continu à 1 100 °C contre une limite de ~500 °C ; une excellente résistance aux chocs thermiques empêche les fissures en cas de changements rapides de température ; la pureté ultra élevée élimine la précipitation des ions et la contamination des échantillons
par rapport à l'instrument PTFE/téflon :Convient aux applications à haute température où le PTFE ramollit au-dessus de 260°C ; le mur transparent permet une surveillance visuelle du processus ; la structure rigide maintient la stabilité dimensionnelle sous les cycles thermiques
Caractéristiques
| Paramètre | Valeur |
|---|---|
| Matériel | Silice fondue de haute pureté (SiO2 > 99,99 %) |
| Dimensions | 36 mm x 32 mm x 580 mm |
| Température de fonctionnement maximale | 1100°C |
| Résistance chimique | HF, acides forts et alcalis, solvants organiques |
| Résistance aux chocs thermiques | Excellent, faible CTE 5,5 x 10^-7 /°C |
| Transmission | Gamme UV-Visible |
| Pureté | Aucune précipitation d'ions métalliques |

