Anti cathode de quartz de corrosion de grande pureté avec la taille faite sur commande extérieure givrée

Nom du produit : Cathode en quartz dépoli de haute pureté, résistante aux hautes températures et à la corrosion
Dimension : 95 mm*91 mm*44,5 mm

Traité intégralement à partir de quartz de haute pureté avec un dépolissage fin simple/double face. Il présente une résistance aux hautes températures, une forte résistance à la corrosion, une absence de précipitation métallique, une excellente isolation et une transmission uniforme de la lumière diffuse. Largement utilisé dans les procédés de revêtement, de pulvérisation sous vide, d'électrochimie, de plasma de laboratoire et de semi-conducteurs optoélectroniques :

Chimie et électrochimie de laboratoire

Support de cathode pour chambres de réaction plasma : Base de cathode isolante à l'intérieur des équipements de nettoyage plasma sous vide et de gravure ionique. La surface dépolie disperse uniformément le faisceau plasma pour améliorer l'uniformité de la réaction.

Support pour tests électrochimiques corrosifs : Support isolant pour expériences d'électrolyse avec des électrolytes acides, alcalins et contenant du fluor, isolant les impuretés des électrodes métalliques pour éviter la contamination de l'électrolyte.

Microélectronique semi-conductrice et PV (Application principale)

Support de cathode en quartz pour le revêtement par pulvérisation et le dépôt PVD : Supporte les cibles métalliques et les substrats de plaquettes. La surface dépolie affaiblit la décharge d'arc locale pour stabiliser l'uniformité du revêtement. Le matériau de haute pureté évite la précipitation d'ions métalliques et les défauts de film.

Composants de cathode isolants dans les chambres à vide pour la fabrication de puces optoélectroniques et de dispositifs à couches minces, conformes aux normes de fabrication électronique ultra-propres.

Nouveaux matériaux et produits chimiques fins en couches minces

Gabarit de support de cathode pour le dépôt de films fonctionnels et de nano-revêtements, indéformable et sans pollution dans des conditions de vide à haute température.

Base isolante des réservoirs de réaction plasma pour la préparation de films conducteurs et de films catalytiques pour batteries au lithium, résistante aux vapeurs corrosives des précurseurs.

Conditions spéciales de test optoélectronique sous vide

Base de cathode adaptée aux sources de lumière plasma UV ; le quartz dépoli diffuse uniformément la lumière UV pour stabiliser la sortie lumineuse.

Fonctionnement continu à 200~1100°C sous vide, adapté aux processus d'activation ionique à haute température et de dépôt en phase vapeur à haute température.