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Taille faite sur commande polie par précision de grande pureté de feuille de saphir d'alumine monocristalline
| Matériel | Alumine monocristalline (α-Al₂O₃) | Dureté | 9 Mohs |
|---|---|---|---|
| Point de fusion | 2040 ℃ | Transmission | 0,15 μm - 5,5 μm |
| Application | Semi-conducteur, optique, médical, aérospatial | ||
| Mettre en évidence | Feuille d'alumine monocristalline de saphir,Feuille de saphir de haute pureté,Feuille de saphir polie avec précision |
||
Nom du produit : Plaque de saphir monocristallin d'alumine à haute dureté et résistance aux hautes températures
Dimension : Tailles standard ou spéciales irrégulières personnalisées selon les exigences
Polie avec précision à partir d'alumine monocristalline de haute pureté (α-Al₂O₃). Elle présente une dureté Mohs de 9, un point de fusion jusqu'à 2040℃, une haute transmittance sur un large spectre, une forte résistance aux acides et aux alcalis, une excellente isolation et conductivité thermique, et une inertie chimique supérieure. Largement appliquée dans l'optoélectronique des semi-conducteurs, les tests optiques, les expériences de laboratoire à haute température, le traitement médical, l'aérospatiale et les capteurs de précision :
Chimie de laboratoire et tests de précision
Semi-conducteurs, LED et microélectronique (application principale)
Optoélectronique, optique de précision et capteurs
Médical, aérospatial et conditions de travail spéciales
Avantages clés du produit (comparé aux plaques de quartz, de verre optique et de céramique)1. Dureté et résistance à l'usure ultra-élevées : Dureté Mohs 9, juste derrière le diamant, résistant au frottement prolongé et à l'érosion par la poussière avec une durée de vie considérablement prolongée pour les composants de protection.
2. Résistance ultra-large aux hautes températures : Point de fusion 2040℃, fonctionnement continu stable à 1500℃, meilleure conductivité thermique que le quartz pour une dissipation thermique supérieure et une résistance exceptionnelle aux chocs thermiques.
3. Inertie chimique extrême : Résiste à tous les acides forts, alcalis forts et acide fluorhydrique ainsi qu'à l'érosion par plasma ; zéro précipitation d'ions métalliques sans risque de contamination pour la fabrication de haute pureté.
4. Haute transmittance sur tout le spectre : Haute transmittance lumineuse continue de 0,15 μm dans l'UV profond à 5,5 μm dans l'infrarouge moyen, couvrant tous les scénarios de tests optiques UV, visibles et infrarouges.
5. Haute isolation et conductivité thermique : Excellente isolation électrique pour les chambres haute tension, RF et plasma ; meilleure conduction thermique que le quartz pour stabiliser la dissipation thermique des dispositifs haute puissance.
6. Stabilité dimensionnelle à long terme : Déformation quasi nulle à haute température, structure cristalline uniforme et planéité de haute précision, idéal pour l'épitaxie de haute précision et l'étalonnage optique.

