-
Verre de quartz optique
-
Usinage du verre de quartz
-
Tube de verre de quartz
-
Tube capillaire en quartz
-
Tube en verre borosilicaté
-
Tige de verre de quartz
-
Pièces de rechange laser
-
Cible de pulvérisation de dioxyde de silicium
-
Appareil à quartz
-
Glace de quartz
-
Pièces en verre personnalisées
-
Pièces en céramique personnalisées
-
Équipement industriel optique
-
Couverture en verre mobile faisant la machine
-
Instrument de mesure optique
-
Cristal optique
| Matériel | Silice fondue de haute pureté (SiO2 > 99,99 %) | Dimensions de base | 2 mm x 2 mm |
|---|---|---|---|
| Type de cavité | Fosse conique centrale | Température de fonctionnement maximale | 1100°C |
| Résistance chimique | HF, acides forts et alcalis, solvants organiques | Extension thermique | CTE 5,5 x 10^-7 /°C (faible) |
| Finition de surface | Usiné avec précision, lisse et sans éclats | Pureté | Aucune précipitation d'ions métalliques |
| Application | Porte-échantillon optique pour micro-échantillons, base de positionnement de semi-conducteur, cellul | ||
| Mettre en évidence | Substrate de quartz fondu lisse,Substrate de quartz fondu avec cavité conique,Analyse optique de l'échantillon de substrat de quartz fondu |
||
Présentation du produit
LeSubstrat de quartz à cavité conique(base 2 mm x 2 mm avec fosse conique centrale) est un composant à quartz de qualité optique de haute précision conçu pour le positionnement de micro-échantillons, les tests optiques et l'expérimentation de semi-conducteurs. Usiné avec précision à partir de silice fondue de haute pureté (SiO2 > 99,99 %) avec un évidement conique lisse et sans éclats, il offre une stabilité thermique exceptionnelle jusqu'à 1 100 °C, une résistance chimique exceptionnelle au HF et aux réactifs agressifs, et une lixiviation ionique nulle, ce qui en fait la plate-forme idéale pour les applications optiques et semi-conductrices à micro-échelle les plus exigeantes.
Principales fonctionnalités
- Cavité conique de précision :Fosse centrale conique avec finition lisse et sans éclats pour un placement et un positionnement sécurisés des micro-échantillons
- Résistance aux températures élevées de 1 100 °C :Maintient la stabilité dimensionnelle et la qualité de surface dans des conditions thermiques extrêmes sans déformation
- HF et forte résistance chimique :Insensible à l'acide fluorhydrique, aux acides concentrés, aux alcalis forts et aux solvants organiques
- Faible dilatation thermique :CTE 5,5 x 10^-7/°C garantit des dimensions et une géométrie de cavité stables sur de larges plages de température
- Haute pureté et lixiviation sans ions :SiO2 > 99,99 % sans précipitation d'ions métalliques, empêchant la contamination des échantillons
- Usinage de précision :Surface finement polie avec des tolérances dimensionnelles exactes pour un alignement optique reproductible
Applications
| Industrie | Application |
|---|---|
| Test d'échantillons optiques | Support à point fixe pour échantillons de microparticules et de poudres avec base transparente permettant la détection de transmission lumineuse et l'analyse spectroscopique |
| Expérimentation des semi-conducteurs | Base de positionnement et d'alignement pour micro-composants avec cavité de précision limitant le mouvement pendant les tests |
| Tests microchimiques | Cellule à réactifs d'un nanolitre avec évidement conique pour les réactions chimiques en micro-volume et l'analyse au microscope |
Avantages compétitifs
vs substrat plastique/polymère :Les plastiques gonflent et se dégradent dans les solvants organiques et ne résistent pas aux températures élevées ; ce substrat en quartz résiste à tous les solvants et acides, résiste à 1 100 °C et peut être nettoyé et réutilisé à plusieurs reprises sans dégradation
par rapport au substrat en verre borosilicaté :Le verre borosilicaté se ramollit au-dessus de 500°C et est attaqué par HF ; le substrat en quartz maintient son intégrité à 1 100 °C et est entièrement résistant à l'acide fluorhydrique et à tous les milieux corrosifs
Caractéristiques
| Paramètre | Valeur |
|---|---|
| Matériel | Silice fondue de haute pureté (SiO2 > 99,99 %) |
| Dimensions du socle | 2 mm x 2 mm |
| Type de cavité | Fosse conique centrale |
| Température de fonctionnement maximale | 1100°C |
| Résistance chimique | HF, acides forts et alcalis, solvants organiques |
| Expansion thermique | CTE 5,5 x 10^-7 /°C (faible) |
| Finition de surface | Usiné avec précision, lisse et sans éclats |
| Pureté | Aucune précipitation d'ions métalliques |

