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Substrat de quartz de haute pureté de 180 × 15 × 5 mm avec résistance à haute température

  • 180×15×5mm High Purity Quartz Substrate With High Temperature Resistance
  • 180×15×5mm High Purity Quartz Substrate With High Temperature Resistance
  • 180×15×5mm High Purity Quartz Substrate With High Temperature Resistance
Lieu d'origine Chine
Numéro de modèle QT-SB-180x15x5
Prix negotiable
Détails sur le produit
Matériel Silice fondue de haute pureté (SiO2 > 99,99 %) Dimensions 180 mm x 15 mm x 5 mm (L x l x T)
Température de fonctionnement maximale 1100°C Finition de surface Meulé et poli avec précision.
Coefficient de dilatation thermique 5,5 x 10^-7 /°C (CTE ultra-faible) Résistance chimique Acide fluorhydrique, acide fort et alcali
Transmission > 92 % (plage UV-Visible) Impureté métallique Ultra-faible, pas de précipitations
Application Revêtement de plaquette semi-conductrice, substrat de film optique, fixation de cellule photovoltaïq
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Substrate au quartz de haute pureté

,

sous-produit de quartz de 180 × 15 × 5 mm

,

Substrate de quartz résistant à haute température
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Description de produit

Vue d'ensemble du produit

LeSubstrate de quartz de silice fondu de haute puretéest une plaque de verre au quartz moulé à la précision (180 mm x 15 mm x 5 mm) conçue pour les semi-conducteurs haut de gamme, les revêtements optiques, les photovoltaïques et les applications de laboratoire.Fabriqué à partir de silice fondue de qualité supérieure (SiO2 > 990,99%), ce substrat offre une stabilité thermique, une inerté chimique et une clarté optique exceptionnelles ­ ce qui en fait le choix préféré pour les environnements de fabrication exigeants de haute précision.

Principales caractéristiques

  • Ultra-haute pureté:SiO2 > 99,99% avec une teneur extrêmement faible en impuretés métalliques.
  • Résistance à la température à 1100°C:Résiste à des températures extrêmes sans déformation ni dégradation, dépassant de loin les alternatives de verre borosilicate
  • Résistance à la corrosion à haute fréquence:Excellente durabilité chimique contre l'acide fluorhydrique, les acides forts et les alcalis idéal pour les procédés chimiques humides agressifs
  • Expansion thermique ultra-faible:La CTE de 5,5 x 10^-7 /°C empêche les fissurations et les déformations sous des cycles de température rapides
  • Haute transmission:> 92% de transmission à travers le spectre UV vers le spectre visible, parfait pour les applications de revêtement optique et de photolithographie
  • Finition de surface de précision:Des surfaces moulées et polies de précision assurent une planéité et un dépôt uniforme du revêtement

Applications

Le secteur industrielApplication du projet
Semi-conducteurs et microélectroniquesupport d'emballage de gaufre, substrat de lithographie, base de revêtement à haute température, plateforme d'essai de vieillissement des composants électroniques
Optique et photoélectriqueSubstrate de revêtement optique à couche mince, base de plaque filtrante, appareil de revêtement sous vide, banc d'essai spectrale
PV et énergie nouvelleFixe de revêtement de cellules solaires, diffusion à haute température et support de processus PECVD, substrat anti-déformation
Laboratoire et chimie finePlateforme de frittage à haute température, banc d'essai de corrosion HF, support de réaction chimique solide
Instruments de précisionSubstrate de référence du spectromètre, plaque de banc de l'équipement d'inspection optique

Avantages concurrentiels

contre le verre borosilicate:Résiste à plus de 1100°C par rapport à la limite de ~500°C; résistance aux acides HF supérieure; 10 fois moins d'expansion thermique empêche la fissuration; une impureté métallique ultra-faible élimine le risque de contamination du processus

Par rapport à l'aluminium céramique:Haute transparence optique pour les applications UV visibles; finition de surface plus lisse pour un revêtement uniforme; poids plus léger et usinage de précision plus facile

Les spécifications

ParamètreValeur
MatérielSilice fondue de haute pureté (SiO2 > 99,99%)
Les dimensionsPour les véhicules à moteur à commande autonome, les dimensions de l'emballage doivent être définies comme suit:
Température maximale de fonctionnement1100°C
ÉTC5.5 x 10^-7 /°C
Transmission> 92% (UV visible)
Résistance chimiqueHF, acide fort et alcalis
Finition de surfacePoussière et polissage de précision
Impureté des métauxTrès basse température, aucune pluie
Étiquettes:

Plaque de verre optique à quartz fondu

Plaque de verre optique givré

Plaque de verre optique 1100Mpa