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Plaque de quartz polissée à une face 200x250x6 mm de haute pureté
| Matériel | Quartz de grande pureté | Dimensions | 200 mm x 250 mm x 6 mm |
|---|---|---|---|
| Surface | Optique de précision sur un seul côté poli | Résistance à la température | Jusqu'à 1100°C |
| Résistance chimique | Résistant aux HF et aux acides/alcalis forts | Pureté | Haute pureté, aucune précipitation de métal |
| Mettre en évidence | Plaque de quartz polissée à une face,Plaque de quartz de 200x250x6 mm,Plaque de quartz porteuse de plaquettes de semi-conducteurs |
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Plaque de quartz polie simple face 200x250x6mm
Cette plaque de quartz polie sur un seul côté, mesurant 200 x 250 x 6 mm, présente une surface polie optique de précision avec le côté opposé gauche rectifié pour un positionnement stable. Fabriqué à partir de quartz de haute pureté, il offre une résistance thermique de 1 100 °C et une durabilité chimique supérieure, idéal pour les supports de plaquettes semi-conductrices, les substrats d'expérimentation optique, les montages de revêtement sous vide et les outils de laboratoire à haute température.
Paramètres du produit
| Paramètre | Spécification |
|---|---|
| Matériel | Quartz de haute pureté |
| Dimensions | 200 mm x 250 mm x 6 mm |
| Finition de surface | Optique de précision sur un seul côté poli |
| Résistance à la température | Jusqu'à 1100°C |
| Résistance chimique | Résistant aux HF et aux acides/alcalis forts |
| Transmission | Transmission élevée (côté poli) |
| Dilatation thermique | Faible dilatation, résistant aux chocs thermiques |
| Pureté | Haute pureté, aucune précipitation d'impuretés métalliques |
Principales fonctionnalités
- Optique simple face polie– Une surface polie miroir avec précision pour une excellente transmission de la lumière et une clarté optique, tandis que le revers rectifié permet un positionnement et un montage stables.
- Résistance thermique jusqu'à 1 100 °C– Maintient l’intégrité structurelle et la stabilité dimensionnelle à des températures élevées et soutenues sans déformation, idéal pour les opérations de traitement et de diffusion de plaquettes semi-conductrices.
- HF et forte résistance chimique– Supérieur au verre borosilicaté, résiste à l’acide fluorhydrique et aux acides/alcalis concentrés pour les environnements exigeants de traitement des semi-conducteurs et des produits chimiques.
- Haute pureté, aucune contamination– Quartz pur à 99,99 % sans précipitation d’impuretés métalliques, empêchant la contamination des plaquettes et des échantillons dans la fabrication de semi-conducteurs de haute pureté.
- Faible dilatation thermique– Une excellente résistance aux chocs thermiques empêche les fissures sous des cycles de température rapides, garantissant ainsi un service fiable à long terme dans les applications de chauffage cyclique.
Applications
1. Industrie des semi-conducteurs et du photovoltaïque
Plaque support de plaquette pour les processus de revêtement de puces et de diffusion. La surface polie supporte les plaquettes sans contamination, maintenant la stabilité dimensionnelle à des températures de traitement élevées sans perte d'impuretés.
2. Industrie des instruments optiques
Substrat de référence pour les tests de spectre et plaque de base de fixation du chemin optique. La surface polie assure une transmission claire de la lumière tandis que le côté non poli assure un positionnement et un montage stables.
3. Processus de revêtement de précision
Support de revêtement sous vide pour le dépôt de lentilles optiques, résistant aux températures élevées de la chambre et aux gaz de processus corrosifs lors des opérations de revêtement de couches minces.
4. Laboratoire de chimie
Plateau de frittage à haute température et porte-échantillon pour test de corrosion, compatible avec le HF et divers réactifs fortement corrosifs pour les expériences chimiques exigeantes.
Avantages par rapport au verre borosilicate
Contrairement aux plaques de verre borosilicaté qui sont attaquées par HF et ramollissent à haute température, cette plaque de quartz polie sur un seul côté offre une résistance totale à HF, un fonctionnement soutenu à 1 100 °C, une finition de surface de qualité miroir pour une transmission lumineuse supérieure, une faible dilatation thermique pour une résistance aux fissures et une construction de haute pureté pour des environnements de fabrication de semi-conducteurs et de précision sans contamination.

