Plaque de Quartz perforée de précision, silice fondue de haute pureté, Double face moulue pour le revêtement sous vide de four tubulaire

Silice fondue de grande pureté de plat de quartz perforé de précision

Cette plaque de quartz perforée de précision est fabriquée à partir de silice fondue de haute pureté avec un broyage fin double face. Doté de trous précisément uniformes avec des bords nets et sans écaillage, il offre une résistance à la chaleur de 1 100 °C et une durabilité supérieure aux produits chimiques acides/alcalis. Idéal pour les déflecteurs de diffusion de gaz de fours tubulaires, les supports de pièces de revêtement sous vide, les supports de frittage de semi-conducteurs et les plaques filtrantes de laboratoire chimique.

Paramètres du produit

Principales fonctionnalités

• Trous perforés de précision– Modèle de trous uniforme avec des bords nets et sans écaillage, garantissant un débit de gaz constant et des performances mécaniques fiables.
• Mouture fine double face– Les deux surfaces sont rectifiées avec précision pour une planéité supérieure et une épaisseur uniforme, garantissant un support stable de la pièce et une distribution de gaz.
• Résistance thermique jusqu'à 1 100 °C– Maintient l’intégrité structurelle et la stabilité dimensionnelle lors d’un fonctionnement soutenu à haute température dans les applications de four tubulaire et de frittage.
• HF et forte résistance chimique– Supérieur au verre borosilicaté, résiste à l’acide fluorhydrique et aux acides/alcalis concentrés pour les applications de traitement chimique.
• Haute pureté, aucune contamination– Silice fondue pure à 99,99 % sans précipitation d’impuretés, empêchant la contamination des échantillons dans les processus de semi-conducteurs et de haute pureté.

Applications

1. Déflecteur de gaz pour four tubulaire

Plaque séparatrice perméable aux gaz supportant les matériaux en poudre tout en équilibrant la distribution du flux de gaz protecteur dans les environnements de four tubulaire pour un traitement thermique uniforme.

2. Appareil de revêtement sous vide

Support de positionnement de pièce avec trous traversants permettant la circulation du gaz de processus pendant le dépôt sous vide de couches minces, assurant une couverture uniforme du revêtement.

3. Support de frittage de semi-conducteurs

Plaque de support perméable aux gaz pour le frittage de matériaux semi-conducteurs, permettant le dégazage des impuretés et une exposition à une atmosphère uniforme pendant le traitement à haute température.

4. Plaque filtrante de laboratoire chimique

Filtre séparateur résistant à la corrosion et plaque de support perméable aux gaz de réaction pour les applications de laboratoire chimique impliquant des réactifs agressifs.

Avantages par rapport au verre borosilicate

Contrairement aux plaques perforées en verre borosilicaté qui sont attaquées par HF et ramollissent à haute température, cette plaque de silice fondue offre une résistance totale à HF, un fonctionnement soutenu à 1 100 °C, une excellente résistance aux chocs thermiques sans fissuration et une grande pureté sans contamination, ce qui en fait le choix supérieur pour les applications exigeantes à haute température, corrosives et de haute pureté.