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Tuyaux de quartz scellés à une extrémité OD25xID21xL130mm Haute pureté pour four à tubes Porteur d'échantillon Bubbler Réacteur chimique
| Matériel | Quartz de grande pureté | Dimensions | OD25mm x ID21mm x L130mm |
|---|---|---|---|
| Épaisseur de paroi | 2mm | Type final | Une extrémité intégralement fusionnée et scellée |
| Résistance à la température | Jusqu'à 1100°C | Résistance chimique | Résistant aux HF et aux acides/alcalis forts |
| Mettre en évidence | Tube en quartz à extrémité scellée,Tubes à quartz de 130 mm OD25xID21xL1,Tubes d'échantillonnage de four à haute pureté |
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Tube de quartz scellé à une extrémité OD25 * ID21 * L130mm
Ce tube de quartz scellé à une extrémité, de taille OD25*ID21*L130 mm avec une épaisseur de paroi de 2 mm, comporte une extrémité fermée intégralement fusionnée pour une excellente étanchéité à l'air. Fabriqué à partir de quartz de haute pureté, il offre une résistance à la chaleur de 1 100 °C et une durabilité chimique supérieure aux acides HF/forts, idéal pour les porte-échantillons de fours tubulaires, les récipients à barboteurs de gaz, les réacteurs chimiques scellés et les récipients pour précurseurs de semi-conducteurs.
Paramètres du produit
| Paramètre | Spécification |
|---|---|
| Matériel | Quartz de haute pureté |
| Diamètre extérieur | 25mm |
| Diamètre intérieur | 21mm |
| Longueur totale | 130mm |
| Épaisseur de paroi | 2mm |
| Type de fin | Une extrémité intégralement fusionnée et scellée |
| Résistance à la température | Jusqu'à 1100°C |
| Résistance chimique | Résistant aux HF et aux acides/alcalis forts |
| Étanchéité à l'air | Excellent, aucune fuite de gaz |
| Pureté | Haute pureté, pas de précipitation d'ions |
Principales fonctionnalités
- Extrémité scellée intégralement fusionnée– Une extrémité fusionnée en permanence lors de la fabrication, garantissant une étanchéité à l'air à 100 % sans risque de fuite au point d'étanchéité lors d'un fonctionnement à haute température.
- Résistance thermique jusqu'à 1 100 °C– Maintient l’intégrité structurelle à des températures élevées et soutenues pour les applications de calcination et de frittage dans des fours tubulaires sans déformation ni ramollissement.
- HF et forte résistance chimique– Supérieur au verre borosilicaté, résiste à l’acide fluorhydrique et aux acides/alcalis concentrés pour les environnements de réaction corrosifs scellés.
- Haute pureté, aucune contamination– Quartz pur à 99,99 % sans précipitation d’ions, empêchant la contamination des échantillons lors du traitement des semi-conducteurs et des produits chimiques de haute pureté.
- Épaisseur de paroi uniforme– Une épaisseur de paroi constante de 2 mm garantit une répartition homogène de la chaleur et une résistance mécanique fiable dans des conditions de cyclage thermique.
Applications
1. Porte-échantillon pour four tubulaire
Récipient de calcination à haute température pour échantillons de poudre, permettant un frittage scellé sous atmosphère de gaz protecteur avec l'extrémité fermée empêchant la perte d'échantillon et les fuites de gaz.
2. Dispositif de barbotage de gaz
Réservoir de liquide bouillonnant de gaz vecteur pour la vaporisation des précurseurs et l'humidification des réactifs, l'extrémité scellée formant le fond de la chambre du barboteur pour un contact gaz-liquide fiable.
3. Réacteur de laboratoire chimique
Récipient de réaction scellé pour les expériences avec des réactifs fortement corrosifs, avec une résistance totale au HF permettant un traitement chimique à contact prolongé qui détruirait les récipients en verre standard.
4. Traitement des semi-conducteurs
Récipient de distribution de matières premières de haute pureté et récipient source de gaz CVD à petite échelle, avec précipitation d'ions nulle protégeant la pureté des matériaux de qualité semi-conducteur.
Avantages par rapport au verre borosilicate
Comparé aux tubes scellés en verre borosilicaté, ce tube de quartz offre une résistance totale aux acides HF, un fonctionnement soutenu à 1 100 °C, une extrémité scellée intégralement fusionnée sans adhésif ni joint susceptible de fuir, et une excellente résistance aux chocs thermiques contre la fissuration sous des changements rapides de température, ce qui en fait le choix supérieur pour les applications chimiques et semi-conductrices scellées à haute température.

