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Contenant de quartz à paroi carrée épaisse de haute pureté pour réservoir de frittage à haute température
| Matériel | Quartz de grande pureté | Dimensions intérieures | 160 mm x 160 mm |
|---|---|---|---|
| Hauteur | 80mm | Épaisseur de paroi | 5 mm |
| Dimensions extérieures | 170 mm x 170 mm x 80 mm | Résistance à la température | Jusqu'à 1100°C |
| Résistance chimique | Résistant aux HF et aux acides/alcalis forts | ||
| Mettre en évidence | Contenant en quartz à paroi épaisse,Contenant de quartz carré,contenant de quartz de haute pureté |
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Conteneur carré 160x160x80mm de quartz de paroi épaisse de grande pureté
Ce récipient en quartz carré à paroi épaisse de haute pureté présente des dimensions intérieures de 160 x 160 mm, une hauteur de 80 mm et une épaisseur de paroi uniforme et robuste de 5 mm (extérieure : 170 x 170 x 80 mm). Fabriqué à partir de quartz de haute pureté avec un traitement de précision intégral, il offre une résistance thermique de 1 100 °C, une durabilité chimique supérieure aux HF et aux acides/alcalis pour les applications de frittage à haute température, de traitement chimique par voie humide et de purification de matériaux semi-conducteurs.
Paramètres du produit
| Paramètre | Spécification |
|---|---|
| Matériel | Quartz de haute pureté |
| Dimensions intérieures | 160 mm x 160 mm |
| Hauteur | 80mm |
| Épaisseur de paroi | 5 mm (Uniforme) |
| Dimensions extérieures | 170 mm x 170 mm x 80 mm |
| Résistance à la température | Jusqu'à 1100°C |
| Résistance chimique | Résistant aux HF et aux acides/alcalis forts |
| Résistance aux chocs thermiques | Excellent, Anti-fissuration |
| Pureté | Haute pureté, aucune précipitation d'impuretés |
Principales fonctionnalités
- Paroi uniforme de 5 mm d'épaisseur– Traité avec précision avec une épaisseur de paroi constante, offrant une résistance structurelle et une uniformité thermique pour les applications à haute température.
- Résistance thermique jusqu'à 1 100 °C– Maintient la stabilité dimensionnelle et l’intégrité structurelle à des températures élevées et continues sans déformation ni fissuration, idéal pour les processus de frittage.
- Résistance aux HF et aux acides forts– Durabilité chimique supérieure contre l’acide fluorhydrique et les acides et alcalis forts concentrés, inégalée par les alternatives en verre borosilicaté.
- Haute pureté, aucune contamination– Le quartz pur à 99,99 % garantit l’absence de précipitation d’impuretés qui pourraient contaminer les matériaux sensibles lors du traitement.
- Excellente résistance aux chocs thermiques– Résiste aux changements rapides de température sans fissuration, permettant des cycles de trempe et de chauffage sûrs dans les environnements de laboratoire et de production.
Applications
1. Frittage à haute température
Cuve carrée pour le frittage de matériaux en poudre et les réactions à l'état solide à haute température en laboratoire et en production à l'échelle pilote, résistant à un fonctionnement soutenu à 1 100 °C.
2. Décapage chimique humide
Récipient carré ouvert pour le décapage acide humide et les tests d'immersion d'échantillons de corrosion, résistant au HF et aux solutions acides fortes qui pourraient attaquer les récipients en verre borosilicaté.
3. Traitement des matériaux semi-conducteurs
Réservoir de réaction de purification de matières premières en petits lots pour la fabrication de semi-conducteurs, offrant un confinement sans contamination pour les processus chimiques de haute pureté.
4. Appareil d'équipement de revêtement
Cavité de positionnement interne et manchon d'outillage pour équipement de revêtement, offrant une stabilité dimensionnelle et une inertie chimique dans les environnements de dépôt sous vide.
Avantages par rapport au verre borosilicate
Contrairement aux récipients en verre borosilicaté qui sont attaqués par l'acide fluorhydrique et risquent de se fissurer sous contrainte thermique, ce récipient en quartz offre une résistance supérieure aux HF, une stabilité thermique à 1 100 °C sans déformation et une grande pureté qui empêche la contamination des matériaux, ce qui en fait le choix essentiel pour les applications exigeantes de produits chimiques, de semi-conducteurs et de traitement à haute température.

